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產(chǎn)品中心
商品描述
以四氟化硅為原料，采用CVD法制造，具有大尺寸、低雜質(zhì)含量等特性，光學(xué)均勻性好，可用于LCD光掩膜基板、高能激光光學(xué)元件和半導(dǎo)體石英器件的制造。
產(chǎn)品指標(biāo)
| 型號 | 金屬雜質(zhì) （ppb）） | 羥基 （ppm） | 均勻性 | 條紋 | 應(yīng)力雙折射 （nm/cm） | 尺寸 （mm） | 波段 （nm） |
| HOSQ-021 | ＜500 | ＜1000 | NS | 1D | ＜5 | D1000 | 190-2500 |
備注：可根據(jù)使用尺寸定制生產(chǎn)方案
金屬雜質(zhì)含量
單位：ppb
| Al | Ba | Ca | Cr | Co | Cu | Fe | K | Li | Mg | Mn | Ni | Na | Ti | 含金量 |
| ＜50 | ＜5 | ＜50 | ＜2 | ＜5 | ＜5 | ＜5 | ＜20 | ＜5 | ＜5 | ＜5 | ＜5 | ＜40 | ＜5 | ＜500 |
光學(xué)非均勻性與應(yīng)力雙折射
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以四氟化硅為原料，采用VAD法制造，具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性，吸收系數(shù)低，光學(xué)均勻性好，可用于IC光掩膜基板、工業(yè)激光聚焦準(zhǔn)直鏡、激光光纖端帽、高能激光光學(xué)元件的制造。
￥1800.00￥1500.00 -
以四氟化硅為原料，采用OVD法制造，具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性，吸收系數(shù)低，光學(xué)均勻性好，可用于IC光掩膜基板、工業(yè)激光聚焦準(zhǔn)直鏡、激光光纖端帽、高能激光光學(xué)元件的制造。
￥1800.00￥1500.00 -
以四氟化硅或有機硅為原料，采用VADD法制造，具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性，光學(xué)均勻性好，可用于LCD光掩膜基板、工業(yè)激光場鏡、聚焦準(zhǔn)直鏡、激光光纖端帽、保護鏡的制造。
￥1800.00￥1500.00 -
以四氟化硅或有機硅為原料，采用OVD法制造，具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性，光學(xué)均勻性好，可用于LCD光掩膜基板、工業(yè)激光場鏡、聚焦準(zhǔn)直鏡、激光光纖端帽、保護鏡的制造。
￥1800.00￥1500.00
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